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【創(chuàng)新風(fēng)華】風(fēng)華高科一項技術(shù)獲得國內(nèi)授權(quán)發(fā)明專利

近日,風(fēng)華高科一項關(guān)于“調(diào)控Pt膜層晶體生長取向的制備技術(shù)”獲得國內(nèi)授權(quán)發(fā)明專利。截止2024年2月,公司已申請國內(nèi)外專利超千項,其中發(fā)明專利超600項,獲得授權(quán)專利近700項。

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本專利涉及Pt膜層的制備方法,通過濺射鍍膜結(jié)合后處理工藝,有效解決了薄膜沉積技術(shù)在Pt膜層制備過程中產(chǎn)生的晶體取向單一及膜層不致密的問題。本方法所得的Pt膜晶體取向多樣、致密性高、TCR高、線性度好,制備方法成品率高、成本性能穩(wěn)定優(yōu)越,利于批量生產(chǎn),對于推動Pt溫度傳感器的發(fā)展具有積極作用。

接下來,風(fēng)華高科將不斷汲取習(xí)近平新時代中國特色社會主義思想的非凡智慧,全面落實省委和廣晟控股集團“1310”具體部署,堅持變革求進、創(chuàng)新致勝,注重高效創(chuàng)新和知識產(chǎn)權(quán)的布局,不斷優(yōu)化生產(chǎn)工藝,升級產(chǎn)品品質(zhì),倡導(dǎo)高效研發(fā)創(chuàng)新對中高端產(chǎn)品提供扎實的技術(shù)支撐,為公司高質(zhì)量發(fā)展提供有力保障。


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